氮氣烘箱，掩膜板烘箱使用工藝

      在掩膜版的生產制造過程中，掩膜版基板在光阻涂布后會有一個烘烤的環(huán)節(jié)，又稱為前烘。目的是用加熱蒸發(fā)的方式祛除掩膜版上光阻中多余的溶劑，增強光阻與掩膜版基板之間的粘附力，并使光阻起到固化的作用；同時，涂覆光阻后的掩膜版在曝光顯影后也需要做顯影后烘，目的是祛除掩膜版上多余的水分、殘留溶劑和消除駐波效應。

     掩膜版制作工藝，包括如下步驟：S1、涂膠：提供一光學高分子PC復合板材，在所述光學高分子PC復合板材表面旋涂抗反射中性密著層，在所述抗反射中性密著層上旋涂中性UV光刻膠；S2、光刻：通過光刻直寫掩膜機對中性UV光刻膠進行激光曝光；S3、顯影：將光刻后的光學高分子PC復合板材置于一顯影槽進行浸泡顯影，所述顯影槽內設有顯影液；S4、堅膜。

氮氣烘箱，掩膜板烘箱性能

全周激光滿焊，SUS304＃不銹鋼電熱產生器，防機臺本身產生微塵；

采用特殊風道，水平送風，溫度均勻性佳；

可定值運行，多段程序運行；

設備采用雙腔室一體設計，獨立控制，節(jié)省空間；

溫度范圍： RT+10～200、300/400℃；

溫度均勻度：≤±1.5℃；

潔凈度：class100/1000，適用潔凈間；

設備尺寸：定制

計時功能：0~ 99H99M可調，到溫計時，計時完成蜂鳴并停止加熱；

降溫方式：可選配

保溫材料：超細陶瓷纖維；

隔 板：1-10層，；

溫度測量傳感器：高精度鉑電阻；