在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。

　　

　　HMDS烤箱主要功能：

　　將HMDS涂到樣品表面后，經烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物，將樣品表面由親水性變?yōu)槭杷?，此疏水性能夠很好的與光刻膠結合，增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。

　　

　　性能特點：

　　1、機外殼采用不銹鋼SUS304材質制造，內膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內膽外壁四周，內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防dan雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。

　　2、箱門閉合松緊能調節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內高真空度。

　　3、微電腦智能控溫儀，具有設定，測定溫度雙數字顯示和PID自整定功能，控溫精確，可靠。

　　4、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時間。

　　5、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。

　　6、整個系統(tǒng)采用優(yōu)質材料制造，無發(fā)塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境。