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HMDS預(yù)處理系統(tǒng)有哪些優(yōu)點(diǎn)你清楚嗎?

更新時(shí)間:2020-09-17   點(diǎn)擊次數(shù):2555次
  HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是至關(guān)重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),而涂膠工藝的好壞,直接影響到光刻的質(zhì)量。涂膠工藝中的一種叫Hexamethyldisilazane(HMDS)化學(xué)制劑,化學(xué)名稱叫六甲基二硅氮 甲烷,即HMDS。把它涂到硅片表面后,通過加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主題的起表面活性劑作用的化合物,它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起到耦合的作用。在顯影的過程中,增強(qiáng)了光刻膠與基底的粘附力,從而有效地抑制刻蝕液進(jìn)入掩模與基底的側(cè)向刻蝕。但隨著光刻線條的越來越細(xì),膠的越來越薄,對(duì)粘附力提出了更高的要求,于是我們研制出了現(xiàn)在的HMDS烘箱。
 
  HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn):
 
  1、預(yù)處理性能更 好,由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會(huì)有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有著更 好的處理效果等。
 
  2、處理更加均勻。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更 好的均勻性。
 
  3、效率高。液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。
 
  4、更加節(jié)省藥液。實(shí)踐證明,用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多;
 
  5、更加環(huán)保和安全,HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整個(gè)過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。

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