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大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱

大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱

簡要描述:

大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱 是半導(dǎo)體光刻工藝中的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于基片表面預(yù)處理,通過六甲基二硅氮烷(HMDS)涂布增強光刻膠與基片的黏附性。

 

HMDS真空烘箱是半導(dǎo)體光刻工藝中的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于基片表面預(yù)處理,通過六甲基二硅氮烷(HMDS)涂布增強光刻膠與基片的黏附性。以下是其核心特點及應(yīng)用信息:

一、主要用途

  1. ?表面改性?:通過HMDS與基片表面反應(yīng),將親水表面轉(zhuǎn)化為疏水表面,提升光刻膠附著力?

  2. ?去水干燥?:在100℃-200℃高溫下抽真空去除基片表面水分,減少光刻膠涂布缺陷?
    。

二、設(shè)備結(jié)構(gòu)特點

  1. ?材質(zhì)?:采用不銹鋼316L內(nèi)膽,耐腐蝕且滿足無塵凈化環(huán)境要求?。

  2. ?控制系統(tǒng)?:

  3. 微電腦智能控溫,溫度分辨率0.1℃,波動度±0.5℃?
    ;

  4. 觸摸屏編程控制,可自定義溫度、真空度及時間參數(shù)?
    。

  5. ?密封性?:硅橡膠門封圈設(shè)計,真空度可達(dá)133Pa?
    。

三、大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱典型工作流程

  1. ?預(yù)熱階段?:抽真空后充入氮氣循環(huán),加熱至設(shè)定溫度以去除基片水分?
    ;

  2. ?HMDS處理?:充入HMDS氣體并保持反應(yīng)時間,形成均勻涂層?
    ;

  3. ?尾氣處理?:真空泵抽排殘余氣體至專用回收系統(tǒng)?

四、技術(shù)參數(shù)示例

  • ?溫度范圍?:室溫+10℃~250℃?

  • ?容積規(guī)格?:常見型號工作室尺寸450×450×450mm(90L)?;

  • ?電源配置?:AC220V±10%,功率2400W?
    。

五、大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱操作規(guī)范

  1. ?安全操作?:需在溫度降至安全范圍后再關(guān)閉真空泵,防止設(shè)備損傷?
    ;

  2. ?維護(hù)要求?:定期檢查真空泵油位及密封件狀態(tài),確保運行穩(wěn)定性?
    。



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