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HMDS真空烘箱,HMDS鍍膜烘箱

HMDS真空烘箱,HMDS鍍膜烘箱

簡要描述:

HMDS真空烘箱,HMDS鍍膜烘箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

HMDS真空烘箱,HMDS鍍膜烘箱的用途:
  HMDS真空烘箱,HMDS鍍膜烘箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

的特點:

1、安全性高、更加環(huán)保,HMDS是有毒化學藥品,人吸入后會出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機,所以也不會對環(huán)境造成污染。 

2、hmds熏蒸機效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達8盒(4寸)的晶片,甚至更多

3、預處理性能好,由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮氣置換再進行的HMDS處理,所以不會有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤,再接著進行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有著更好的處理效果。

4、均勻性好,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

5、hmds烘箱更加智能化,智能型的程式設定,一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。當HMDS液位過低時發(fā)出報警提示。

的技術規(guī)格:

1.設備名稱

  

2、設備型號

  JS-HMDS90

3、設備主要技術參數(shù)                                                          

3.1 工作室尺寸

  450×450×450mm(可定做)

3.2 產(chǎn)品架

  2層

3.3 溫度范圍

  RT+10-250℃

3.4 溫度分辨率

 0.1℃

3.5 溫度波動度

 <±1℃

3.6 真空度

 ≤133pa

3.7 潔凈度

class 100,設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境

3.8電源及總功率

   AC 220V±10%     50HZ       總功率  約2.5KW    

3.9 控制儀表

  人機界面

3.10顯示分辨率

 時間:0.1min

3.11真空泵

 油泵或干泵

 

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